光刻机
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- 思坦科技助力深紫外Micro-LED显示无掩膜光刻技术荣登Nature Photonics
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由思坦科技与南方科技大学、香港科技大学、国家第三代半导体技术创新中心（苏州）联合攻关的重大成果——基于高功率AlGaN深紫外Micro-LED显示的无掩膜光刻技术，于10月15日正式在国际顶尖权威学术期刊NaturePhotonics上发表。思坦科技Micro-LED研究
2024-10-19 08:48:20
